本文標(biāo)題："光纖光柵簡介-實(shí)驗(yàn)室光學(xué)儀器廠家"

光纖光柵的簡介

入射光與另一端面之反射光于纖核( Core )內(nèi)部相互干涉形成駐波，

透過光纖對光的吸收性造成纖核內(nèi)部產(chǎn)生折射率週期性變化，而形成光纖光柵，其寫制架構(gòu)。

但是以這種方式所寫制出來的光纖光柵之折射率變化很小，

其主要原因是由于光纖的軸向孔徑太小，造成雷射光之能量不

能夠全部進(jìn)入到纖核內(nèi)部，且在制作的過程當(dāng)中很容易受到外在環(huán)境的

干擾而影響到所寫制出光纖光柵的特性，因此此一方法并不理想。

利用兩道雷射光從光纖的側(cè)面照射形成干涉條紋寫制光纖光柵的方式，

這方法不僅使寫制光纖光柵的效率明顯的改善了許多，

并可以藉由調(diào)整兩道雷射光的夾角來改變光纖內(nèi)部之光柵週期，所以很快的在業(yè)界跟學(xué)界得到很大的共鳴，

不過，此法有一缺點(diǎn)就是架設(shè)的過程十分複雜且精細(xì)，因此，必須特別注意系統(tǒng)

架構(gòu)的穩(wěn)定度，以避免受外界因素的干擾而造成失敗。

提出利用相位光罩(Phase Mask)的方式來寫制光纖光柵，

這個(gè)方法的優(yōu)點(diǎn)主要是由于儀器的架設(shè)簡單、操作容易且具有較高的穩(wěn)定性和實(shí)用性。

使用相位光罩法寫制光纖光柵，如須寫制出特定波長光纖光柵，則必須透過更換特定週期

的相位光罩，寫制出所需的波長。相位光罩法目前不管在學(xué)界或在業(yè)界

已被廣泛使用，并且適合業(yè)界大量生產(chǎn)光纖光柵或光纖被動元件之使

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